侵权投诉
当前位置:

OFweek激光网

激光组件与材料

正文

国内蓝激光直写系统

导读: 中科院上海光机所高密度光存储实验室在国家相关项目的支持下, 在微纳结构的高速、 大面积光学制造方面取得重要进展。

  中科院上海光机所高密度光存储实验室在国家相关项目的支持下, 在微纳结构的高速、 大面积光学制造方面取得重要进展。高密度光存储实验室提出了基于非线性材料的微纳结构的光学制造新原理, 并利用蓝光激光直写系统和高速旋转方法在多层功能薄膜上实现特征尺寸为 300 nm到 90 nm 的微纳结构高速大面积激光直写制造。 直写速率可达 6m/s,是传统激光直写方法数百倍以上。最小特征尺寸达到了激光直写系统光斑的 1/8 左右。

  随着光电子和信息技术的发展, 要求发展具有高度可控、 快速和大面积的微纳结构制造技术。 目前的聚焦离子束、 电子束、 极紫外、 甚至软 X 射线等均较难同时满足微纳结构的高速大面积制造。 基于可见光波段的远场激光直写技术能够实现可控、快速、 大面积的微米亚微米图形结构的制造, 但由于受到光的衍射极限的制约, 可见光波段的远场激光直写技术很难达到纳米尺度的特征尺寸, 从而不能进行具有纳米特征尺寸的任意结构制造。 上海光机所取得的此项成果能够很好地解决上述难题。

  该技术为国内首创, 在世界上处于领先水平, 在跨尺度的任意微纳图形结构、 微电子光刻领域中的掩膜板以及超高密度光盘母盘制备等方面具有重要的应用前景。

声明: 本文由入驻OFweek公众平台的作者撰写,观点仅代表作者本人,不代表OFweek立场。如有侵权或其他问题,请联系举报。

我来说两句

(共0条评论,0人参与)

请输入评论

请输入评论/评论长度6~500个字

您提交的评论过于频繁,请输入验证码继续

暂无评论

暂无评论

OFweek品牌展厅

365天全天候线上展厅

我要展示 >
  • 激光工程
  • 研发工程
  • 光学工程
  • 猎头职位
更多
文章纠错
x
*文字标题:
*纠错内容:
联系邮箱:
*验 证 码:

粤公网安备 44030502002758号