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武汉光博会走上“国际范”

导读: 11月2日-5日,第九届光博会将在武汉科技会展中心举办。昨日,记者从光博会组委会了解到,本届展会展览面积约3万平方米,专业论坛12个。

  11月2日-5日,第九届光博会将在武汉科技会展中心举办。昨日,记者从光博会组委会了解到,本届展会展览面积约3万平方米,专业论坛12个。

  展会现场,将显示出4大展馆6大展区;会议区,12个主题论坛将逐一展开。

  与往届相比,本届光博会“国际范”更为浓厚。英国展团搭建约60平方米的集体展台,展示英国光电新技术,并举办英国项目推介会。法国、德国、俄罗斯展团均带来10多家本国核心企业参展。

  全球最大的硬盘、磁盘和读写磁头制造商美国希捷、全球激光器巨头之一美国大通激光、联想、惠普等企业都将亮相光博会。

  此外,作为光博会的支持单位之一,台湾区电子电机工业同业公会也将组织10多家台湾优质光电子企业,赴汉参展。

  眼下,一批国际顶尖学者已确定参加此次光博会,包括德国弗劳恩霍夫协会激光研究所Reinhart Poprawe教授、俄罗斯激光协会主席伊万科诺夫什(Ivan B.Kovsh)等。

 

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