侵权投诉
当前位置:

OFweek激光网

激光设备与仪器

正文

光纤光栅紫外刻写平台的国内技术现状

导读: 南京聚科光电技术有限公司上海光机所产业化单位正式推出光纤光栅光纤光栅紫外刻写平台系列产品。该系列平台具有良好移植性、可靠性、刻写性能的光纤光栅刻写平台。

  南京聚科光电技术有限公司上海光机所产业化单位正式推出光纤光栅光纤光栅紫外刻写平台系列产品。该系列平台具有良好移植性、可靠性、刻写性能的光纤光栅刻写平台。

  自1978年加拿大通信研究中心的Hill等人刻写出第一根光纤光栅以来,光纤光栅在光通信、光传感、激光器等领域取得了广泛的应用,具有极大的应用价值,是实现纵模/偏振/横模等模式选择、环境感知、滤波、色散管理等多项功能的核心元器件。特别是随着近年光纤激光器的兴起,光纤光栅作为实现全光纤激光器不可或缺的关键元件,也具有了极大的市场需求。

  经过多年的发展,研究人员开发了多种光纤光栅刻写方法,从使用光源来看主要有193nm/248nm中紫外准分子激光,334nm近紫外激光,488nm氩离子激光,10.6μmCO2激光,400nm/800nm飞秒激光;从刻写技术来看主要有内部写入、全息干涉、分波前干涉、静态/扫描相位掩模、在线成栅、直接写入等。

  中科院上海光机所从20世纪末开始就对光纤光栅展开了研究,包括刻写技术、光栅种类、特性及应用等几乎涉及光纤光栅的各个方面。聚科光电基于光机所在该领域近20年的技术积累,开发了具有良好移植性、可靠性、刻写性能的光纤光栅刻写平台,包括各类核心元器件、集成管理软件、刻写工艺,可以分模块销售也可以整装销售,从而使广大客户在一个较好的技术平台基础上,可以缩短技术研发时间和成本,快速进入光纤光栅领域,有更多精力用于实现客户自身的核心价值。

  上海光学精密机械研究所在光纤光栅紫外刻写技术在国内领先,其型号为PIWP-101A的平台选用国产平衡精密隔振光学平台作为基础,完美的避免了环境因素对平台稳定程度的影响。本平台的光路系统全部可以依照客户的要求进行定制,而由国内顶尖光学工程大师为本平台提供的光路系统设计及配件清单,则让使用者在生产的基础上也能兼顾到在科学的海洋中追寻宝藏。

  平台为了能实现科研与生产兼顾,特别选择了聚科自动化光纤夹持与光纤电动调节系统的组合,方便使用者在科研与生产之间迅速转换。

  而在其他配件方面,选配了由国际顶尖激光器厂商提供的准分子激光器;美国vytran公司提供的PTR-200-MRC系列光纤涂覆机和LDC-400光纤切割机;由日本藤仓公司提供的中段光纤剥除仪、CT30光纤切割刀、FSM-80S光纤熔接机;由国内厂商提供的高温烘箱;将组成光纤光栅的各种处理流程。对于每个平台,都提供培训指导服务,培训以实际学会光纤光栅刻写平台的使用为准。

声明: 本文由入驻OFweek公众平台的作者撰写,观点仅代表作者本人,不代表OFweek立场。如有侵权或其他问题,请联系举报。

我来说两句

(共0条评论,0人参与)

请输入评论

请输入评论/评论长度6~500个字

您提交的评论过于频繁,请输入验证码继续

暂无评论

暂无评论

OFweek品牌展厅

365天全天候线上展厅

我要展示 >
  • 激光工程
  • 研发工程
  • 光学工程
  • 猎头职位
更多
文章纠错
x
*文字标题:
*纠错内容:
联系邮箱:
*验 证 码: