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争夺光刻技术:尼康向ASML发起诉讼

导读: 近日,尼康发起了一系列针对竞争对手ASML公司光刻系统及其关键光学元件供应商蔡司公司的专利侵权诉讼。

近日,尼康发起了一系列针对竞争对手ASML公司光刻系统及其关键光学元件供应商蔡司公司的专利侵权诉讼。

在荷兰,尼康日本公司已经提交了十一项针对ASML的诉讼,并声称将在东京的法庭采取进一步的行动。起诉对象还包括了在德国曼海姆的蔡司公司,该公司是经营卡尔蔡司半导体制造技术(SMT)的子公司。ASML公司立即作出回应,称将对“不必要的”诉讼进行自辩。在写作改稿的时候,蔡司尚未发出正式回应。ASML将在数周内对卡尔蔡司半导体制造技术公司完成十亿欧元的股权投资,作为开发下一代光刻光学的一部分。

聚焦浸入式光刻技术

尼康的诉讼集中在沉浸式光刻技术,是一种光学“技巧”。该技术用于缩小半导体器件中形貌的大小,已被广泛使用了数年。十多年前,相关公司签署了一项关于技术的交叉许可协议,该协议规定了一段固定的时间内,包括一些专利永久的授权和其他条款。ASML表示,在过渡期间双方已同意不发起任何诉讼,2014年末该协议到期。

荷兰公司首席执行官 Peter Wennink 声称自那时以来,尼康还没有正式启动谈判后续协议的尝试。“尼康的诉讼是毫无根据的,不必要的,并增加了半导体行业的不确定性,”他说。“在过去的几年中,ASML已经多次试图通过谈判与尼康讨论交叉许可协议的扩展。令我们失望的是,尼康没有作出任何认真的努力进行谈判,却选择了采取法律行动。

“我们认为,谈判结果将会对整个行业有利,并促进创新和协作。这种不必要的专利诉讼使我们分散了对真正重要的东西的关注:为了芯片厂商的利益推动技术向前发展。我们应该在市场上竞争,而不是在法庭上。”

这种说法与尼康的说法不符,日本企业在其发布的声明中称:“尼康已经和ASML和蔡司为达成一个解决这些问题的方案进行了会面。但是这些努力,即使在一位经验丰富的调解员的引导下,也未能产生解决方案。ASML和蔡司继续未经授权使用尼康的专利技术使得尼康别无选择,只有通过法律手段来解决。”

公司总裁Kazuo Ushida说:“我们坚信,ASML未经授权使用尼康的专利是我们最先进的技术,包括浸没式光刻技术,这使ASML扩大了其光刻的业务。对知识产权的尊重是公平和健康竞争的基础,对促进创新并为社会提供最先进的产品和服务来说也是必要的。这就是为什么我们决定开始这场诉讼。”

能否达成协议

早在2001年,尼康就在美国提起了早期诉讼,根据日本公司表示赞成的条款,最终在2004达成和解。然而,和解协议包括所谓的“非断言”期间,尼康现在正在寻求赔偿。

“ASML和蔡司都不愿意接受的条款反映了尼康的专利技术的价值。”(尼康)公司说道。虽然近年来的关注焦点是在极紫外线(EUV)光刻系统的发展,基于浸入式氟化氩准分子激光器的步进电机的销售(ARF)仍是ASML目前收入的基础。

根据荷兰公司自己的数据,2016年ASML四分之三的销售额来自氟化氩浸没式工具,大约等于35亿欧元。

就在上周,ASML报道称氟化氩浸没式系统占其目前37%的存货–等于大约17 亿欧元的销售额。 实际上,浸没光刻技术的原理可以追溯到卡尔·蔡司在第十九世纪取得的,本用于提高显微镜分辨率的成果。近来,该成果通过衍变已被用在光刻光学中,可将数值孔径提高到标称(衍射)极限以上。

它配备的工作在193nm的氟化氩激光源的光刻工具和波长更短的157纳米氟激光器一样有效率; 而157nm激光的方案已经持续探索了很多年,但最终被淘汰了。

(4月25日更新)蔡司此后作出回应,称否认任何侵权指控。公司声明:

作为半导体产业的技术驱动者,蔡司依靠创新和合作以及接受知识产权作为其工作的基础。Carl Zeiss SMT公司和其战略合作伙伴ASML容纳成千上万的在许多不同的国家的专利。蔡司认为专利诉讼对整个半导体行业是有害的,因为它使制造商不履行自己的责任,不利于推动光刻技术的发展,同时损害芯片制造商的利益。

“因此,蔡司向尼康提出延续2014年底到期的交叉许可协议,该协议授权专利的相互使用。令蔡司感到失望的是,尼康没有作出任何认真的谈判,却选择了采取法律行动。”

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