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Gigaphoton发布新的DUV光源产品规划图

导读: 半导体光刻光源的主要供应商Gigaphoton株式会社宣布,为提高设备的工作效率,公司将制定新的产品规划图,以应对需求量不断高涨的半导体厂家的要求。

半导体光刻光源的主要供应商Gigaphoton株式会社(母公司:栃木县小山市,董事长:浦中克己)宣布,为提高设备的工作效率,公司将制定新的产品规划图,以应对需求量不断高涨的半导体厂家的要求。

Gigaphoton此次制定的产品规划图“RAM Enhancement”加强了DUV光源受激准分子激光器的可靠性(Reliability)、可用性(Availability)以及可维护性(Maintainability)。公司已经开始行动,将在2020年前打破被业界定位为极限的“工作效率99.8%的壁垒”。

在半导体芯片生产中,光刻工序的工作效率是最大的影响要素。因此,为最大限度地提高设备的工作效率,必须保证“长期稳定的工作”,以及“最短的维修时间”。Gigaphoton为解决这些问题,将延长模块寿命,派遣现场工程师提高设备的服务性能,实现尽可能不停止设备运转的维修。

首先,为保证“长期稳定的工作”,将最新ArF液浸光刻装置的主要模块,包括腔体(AMP CH)、窄带域模块(LNM)、监视模块(MM)的寿命分别延长到120Bpls。其次,为实现“最短的维修时间”,将追加预测装置寿命及自动计算维修时点的软件。

通过这一系列的措施,截止2020年,面向所有客户的必要维修次数将降低到每年一次,模块更换时间减少到原来的一半,可望打破工作效率99.8%的壁垒。(假定内存芯片厂家的脉冲使用量为每年60Bpls。)

Gigaphoton董事长浦中克已评价说:“由于近年来半导体芯片的需求量高,半导体生产设备的工作效率愈发重要。我们推行的产品规划‘RAM Enhancement’就是为满足这样的客户需求而制定的。今后,Gigaphoton也将结合客户需求和市场动向,继续提供最合适的解决方案。”

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