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Cymer推出新型193nm激光器 用于32nm浸入式光刻领域

2007-07-20 16:12
逆光飞舞
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在SEMICON West 2007展会上,Cymer展示了该公司新研制的新型XLR 600i 激光光源,该激光光源工作波长为193nm,输出功率为90W。XLR 600i是第一种90W氩氟化物(ArF)激光光源,据Cymer公司介绍,其设计使批量沉浸和在32nm及其以上工艺节点的双图案光刻成为可能。

XLR 600i基于Recirculating Ring架构,这种架构取代了传统的功率放大级。XLR 600i同时使到光源稳定性得到改善,降低了步进函数,减少了操作成本。

6-KHz XLR600i可产生经改进的脉冲能量稳定性,从而改进了对关键尺寸(CD)的控制。通过气体寿命延长(GLX)技术,XLR 600i把气体再次填充的频率减小了10倍,因此,为已增加的晶圆生产输出量而提高了纯激光的可用性。

“通过向业界展示第一款ArF 90W的激光光源,Cymer再次证明了它在技术上处于领先地位。再次显示出Cymer有能力为客户提供高性能,低操作成本和可扩张性技术的产品。”

声明: 本文由入驻维科号的作者撰写,观点仅代表作者本人,不代表OFweek立场。如有侵权或其他问题,请联系举报。

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