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Mapper公司无掩膜光刻机的研究获重大进展

2007-09-18 09:16
魏丁小陆
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Mapper Lithography日前宣布其多光束无掩膜光刻机的研发取得了里程碑式的进展,这种新型光刻机将用于先进芯片的制造。

Mapper表示,公司已经验证了该设备可实现大面积平行电子束绘制,并适用于32纳米节点技术。

Mapper对于该设备的开发已有时日。该公司称,该款新型设备主要基于两项技术。第一,该设备使用光来控制每条电子束的开关;第二,该设备应用一列MEMS透镜来精确聚焦平行电子束。

Mapper是开发下一代无掩膜光刻工艺中比较有前途的公司之一。该公司的产品免去了高成本掩膜的使用,使制造成本大大降低,并缩短产品上市时间。

据悉,TSMC(台积电)是Mapper公司的投资者之一。

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