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激光晶圆雕刻系统提供双面雕刻

2009-03-24 11:20
夜隼008
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        3月24日消息,JP Sercel Associates Inc(JPSA)发明了新的双面激光雕刻(DSS)工艺,推出了一款最新的激光晶圆雕刻系统。JPSA的DSS雕刻系统可用在LED、蓝宝石、硅、金属片上,具体可取决于晶圆工艺要求。

        JPSA使用了它的专利性背面摄像技术制造出了高精度快速线性对位系统。该激光雕刻系统能够得到很大的吞吐量,由于速度达到了150mm/s,并且不会伤及EPI层。

        所有的JPSA雕刻系统都采用了DSS,这些DSS系统都得到了升级,如:IX 210, IX 300, IX 6100等。DSS系统可以实现从正面到背面的轻松转换。

        JPSA的总裁Charlie Cuneo表示:“多年以来,JPSA一直在正面高级深紫外雕刻领域处于领先地位,加上我们最近所研发的背面雕刻系统,产生了这种新的激光雕刻技术。我们有能力根据客户的生产要求提供高效率的激光雕刻系统。”

        JPSA以提供高效稳定的工业生产系统而闻名,特别是在紫外、准分子激光、和超快激光器方面。该公司的微加工系统、激光光束传递系统、自动化和马达控制系统用在光伏、半导体、生物医学和其它工业领域。JPSA的激光器还用在了订单制造、光学设计咨询、应用开发和准分子激光翻新服务方面。

高吞吐量的LED背面雕刻,在蓝宝石上进行深度30微米的雕刻,速度130mm/s,不影响epi层

编译:光电新闻网 曾聪
 

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