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光学薄膜技术改善DFB激光器的光谱特性

2012-09-19 09:20
潇纵
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  对该样品加镀约14nm厚的膜层后,测试的结果如图3所示。图3(a)表明,该激光器在低电流下是单模工作的,边模抑制比大于30db。图3(b)表明,电流加倍后仍保持单模工作,边模抑制比略有增加。这表明了镀膜起到了明显改善单模工作的作用。

  图4是实验样品实验前和实验后的光输出特性。特性表明,该激光器的阈值电流是相当低的,能输出相当大的光功率,实验后的量子效率变低了。光输出端面的量子效率与该端面的反射率及其相移有关。单层膜的反射率在其光学厚度超过λ/4后呈增加趋势。实验增加了镀层的厚度,此时光输出端面反射率的振幅是增加了,相移也改变了。相移的改变会影响到量子效率,反射率幅值的增加会导致量子效率降低,但对单模工作是不利的。实验结果表明,样品的单模特性得到了明显改善,可见镀膜引起的相移在其中是起了主导作用的。

  4 结 论

  综合上述,可以得到如下结论:

  (1)对于处于双模工作的DFB激光器,通过增加已镀单层增透膜的厚度的方法,成功地改成单模工作;

  (2)对改善单模工作起着主导作用的是端面反射率的相移。另外,镀光学薄膜技术可望成为改善单模工作的有力辅助手段。
 

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