据韩媒报道，台积电CEO魏哲家于5月26日造访了ASML位于荷兰的总部，同时一并造访了工业激光巨头百年德国通快。

魏哲家的行踪是被ASML的CEO Christophe Fouquet 和通快的CEO Nicola Leibinger－Kammüller 通过社交媒体所透露的。

据悉，台积电目前正考虑在2026年下半年量产的1．6nm产品A16之后的工艺中引入High NA EUV设备，在此之前则使用现有的Low NA EUV设备。High NA EUV设备对2nm以下的芯片制程极为关键。

据最新消息显示，ASML新的High NA EUV光刻机晶圆生产速度达到了每小时400至500片晶圆，是当前标准EUV每小时200片晶圆的2－2．5倍的速度，即提升了100％至150％，将进一步提升产能，并降低成本。

而在去年，英特尔是业内首家获得ASML为其量身设计的几台High NA EUV设备。目前，业界预计英特尔将在其14A（1．4nm）半导体工艺中充分利用这新一代光刻技术。

此前，台积电方面曾表示不会购买ASML最新的High－NA EUV设备，其认为该设备的价格过高，在2026年之前没有经济意义，但这一想法现在似乎有所动摇。

本次密访的主角除了ASML，还有来自德国的激光巨头通快。通快集团（TRUMPF）成立于1923年，去年迎来了成立100周年的里程碑。

通快集团是全球唯一一家能够供应极紫外（EUV）光刻机光源的厂商。因此EUV光刻业务也是目前通快发展的重心之一。

实际上，通快在光刻激光发生系统上持续投入超过16年，自2005年起便与美国Cymer公司合作，并在Cymer被ASML收购后继续深化合作。为此，通快成立了专门的子公司——TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing，专注于EUV激光器的研发与生产。2015年，ASML向通快订购了15台EUV光刻工具，标志着EUV光刻业务成为通快发展的核心。

据通快此前公布的2022／2023财年（截至2023年6月30日）报告显示，总销售额达到54亿欧元，同比增长27％。

其中，EUV业务的销售额就达到了9．71亿欧元，同比增长22．2％。主要是提供极紫外（EUV）装置提供超高功率二氧化碳激光器，用于驱动ASML巨大光刻工具源模块中的EUV发射。

对于我国而言，目前尚还没有企业能够量产EUV光刻光源。但据最新消息显示，5月14日，中国科学院上海光学精密机械研究所联合哈尔滨工业大学与上海理工大学，在极紫外（EUV）和软X射线领域取得重大突破，成功实现结构涡旋光调控。这一里程碑式的进展，不仅标志着我国在极紫外光源技术上迈出了关键一步，更为国产光刻机的研发扫清了核心技术障碍。

此外，国内的一些企业，如奥普光电、福晶科技等，也正积极涉足光刻机相关技术的研发和生产工作。其中，奥普光电的大股东为中科院长春光机所，其涉足国产光刻机光源、光学部分的研发工作；

而福晶科技是中科院旗下光刻机上游材料的科技独角兽，其研发的KBBF是一种非线性光学晶体材料，全称KBeNbBFO，它能将激光转化为176nm波长的深紫外激光。

这种深紫外激光光源具有极高的能量和极高的集中度，因此可以用于制造出深紫外固体激光器。而在芯片制造领域，其可能将现有光刻机的精度提升10倍以上，从而极大地提高了芯片制造的效率和精度。

目前，国内的这些进展虽然尚未达到量产EUV光刻光源的水平，但为我国在光刻机技术领域的进一步发展奠定了基础。