薄膜材料可以广泛应用在半导体材料、微电子器件、光电子器件、超导材料、生物材料等领域，随着科技进步，薄膜材料的重要性日益突出，其技术与应用研究不断深入。

脉冲激光沉积（PLD），也称为脉冲激光烧蚀（PLA），是利用高能量密度激光对靶材进行轰击，将轰击出来的物质沉积在衬底上，制备薄膜的一种技术。脉冲激光沉积的原理是，在高能量密度、短脉冲时间条件下，靶材表面吸收激光能量温度迅速升高，使靶材蒸发为等离子体，继续在激光作用下轰击衬底表面从而沉积形成薄膜。

脉冲激光沉积的优点包括：对衬底要求低，可对成分复杂化合物材料进行表面镀膜；对靶材的种类无限制，可保证薄膜成分不被改变，可获得多组分薄膜；定向性强，沉积速率高，制备薄膜所需时间短；工作过程中可利用惰性气体、混合气体等来提高薄膜质量；薄膜均匀性高，可实现小范围薄膜沉积，可生长多层膜和异质膜；在真空环境中进行，对环境无影响，真空腔体易清洁。因此，脉冲激光沉积拥有巨大发展潜力。

薄膜材料可以广泛应用在半导体材料、微电子器件、光电子器件、超导材料、生物材料等领域，随着科技进步，薄膜材料的重要性日益突出，其技术与应用研究不断深入。在脉冲激光沉积技术之前，已有多种镀膜技术被研发问世，但这些技术各有优缺点，无法满足日益提高的薄膜制备需求，在激光技术不断进步、脉冲激光器生产实力不断增强情况下，脉冲激光沉积技术受到关注。

脉冲激光沉积概念提出时间较早，但直到20世纪80年代中后期才受到广泛关注，进入商业化发展阶段，之后其应用领域逐步扩大。现阶段，脉冲激光沉积可用来制备众多薄膜材料，包括但不限于陶瓷氧化物膜、氮化物膜、碳化物膜、硼化物膜、硅化物膜、硫化物膜、氟化物膜、金属氧化物膜、超晶格等，也可以用来合成金刚石、纳米管、纳米粉末、量子点等产品。

根据新思界产业研究中心发布的《2022－2027年中国脉冲激光沉积（PLD）行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，脉冲激光沉积具有膜生长速度快、膜质量好的优点，随着技术不断进步，其制备工艺还将进一步优化，在半导体、超导体、生物工程等领域将发挥越来越重要的作用。总的来看，在真空镀膜领域中，脉冲激光沉积是现阶段应用范围最广、最具发展潜力的薄膜制备技术。

新思界行业分析人士表示，在全球范围内，脉冲激光沉积设备相关生产商主要有德国SURFACE公司、荷兰TSST公司、美国SVTA公司等。经过不断发展，我国真空镀膜设备生产能力不断增强，但产品结构不合理，主要以低端产品生产为主，高端产品需求对外依赖度大。脉冲激光沉积设备作为高性能薄膜制备装置，我国市场自给能力较弱，未来还有较大进步空间。

       原文标题 : 【洞察】脉冲激光沉积（PLD）是重要薄膜制备技术 我国高端设备生产力需提升