科学家在硅片上直接制备砷化镓激光器

2016-06-14 10:00

　　在《应用物理学报》上刊登的一篇报道中指出，通过在硅基片上设计和构造纳米级模式可以限制晶格失配瑕疵，从而使得硅基片砷化镓模式接近零瑕疵，量子点的电子量子限域效应增长使得产生激光成为可能。

　　工作在“回音壁模式”的激光器直径为1μm，被集成在数字芯片上用于通讯。

　　香港科技大学Kei May Lau教授表示：“我们的激光器具有很低阈值，体积足以集成在微处理器中。这类激光器可以在硅片上生长。”

　　Lau的团队和来自加利福利亚大学、桑迪亚国家实验室和哈佛大学研究人员共同合作。

　　现如今，激光器还需要外部光源的光学泵浦。电泵浦将成为下一个研究方向。

　　在上图中，绿色部分表示模拟的回音壁模式电场分布情况。橙色部分表示激光介质（量子点）的量子显微结构图像。蓝色部分描述的是纳米结构硅衬底上的碟片激光器。图片来源：《应用物理学报》

声明： 本网站所刊载信息，不代表OFweek观点。刊用本站稿件，务经书面授权。未经授权禁止转载、摘编、复制、翻译及建立镜像，违者将依法追究法律责任。

共0条评论，0人参与

登录登录即可访问所有OFweek服务

请输入评论内容...

请输入评论/评论长度6~500个字

暂无评论

图片新闻

行业报告