台积电再被坑,2纳米光刻机优先给Intel和三星
外媒指出今年ASML的10台2纳米光刻机分配已经基本确定了,Intel拿到6台,三星获得3台,台积电只能得到一台,考虑到美国对ASML的强大影响力,外媒的这些消息应该有较高的可信性。
Intel在先进工艺制程方面,自从2014年量产14纳米之后,10纳米、7纳米的量产都被延迟了,导致它在先进工艺制程方面已彻底落后于三星和台积电,作为美国的芯片龙头,美国希望Intel重新掌控芯片工艺领先优势,因此强势要求ASML优先将最多的2纳米光刻机分配给Intel。
美国对ASML拥有如此影响力,在于ASML的诸多股东都是美国投资机构,而最先进的EUV光刻技术又是美国提供的,当年美国逐渐了EUV联盟研发成功EUV光刻技术之后,将该项技术交给ASML而不是日本的光刻机企业,由此成就了ASML作为全球最大光刻机企业的地位。
剩下的4台2纳米光刻机本来说是由台积电和三星竞争,不过由于三星的诸多股东都是美国投资机构,以及韩国向来对美国言听计从,再加上一些其他地缘因素,因此美国还是更偏向于三星,而要求ASML将3台2纳米光刻机分配给三星。
对比之下,台积电却并不愿意完全遵从美国的要求,在美国试图利用美国芯片是台积电最大客户的影响力之时,台积电一直都在努力分散设厂。台积电已在日本、美国和中国大陆设厂,还计划在欧洲设厂,不过近期随着德国在芯片补贴方面的摇摆,欧洲设厂计划已停摆。
台积电分散设厂,是希望获得更多客户,降低目前过于依赖美国芯片的状况,通过诸多客户互相制衡,确保台积电自身的话语权,这也是一家企业的经营之道,台积电如此做无可非议,但是美国就会认为台积电不太听话。
之前美国要求三星和台积电上交机密数据以及赴美设厂,三星都是迅速遵从,而台积电则落后一拍,这都显示出台积电方面对待美国的态度与三星有不小的差别,这都导致美国对台积电更为“关爱”,自然在分配2纳米光刻机的时候会“照顾”台积电了。
2纳米光刻机对三大芯片制造企业研发2纳米及以下工艺都非常重要,目前台积电和三星已量产全球最先进的3纳米工艺,但是这两家企业都发现现有的第一代EUV光刻机无法将3纳米推进至经济成本的高良率水平,台积电的3纳米工艺良率只有55%,三星更是低至两成以下。
如此情况下,技术难度更高的2纳米更不可能用现有的EUV光刻机量产,这就引发了三大芯片制造企业争夺2纳米光刻机,谁更最先拿到更多的2纳米光刻机,不仅有助于提升3纳米工艺良率,还能加快2纳米及以下工艺的研发。
从今年的10台2纳米光刻机分配来看,Intel获得了先机,三星次之,台积电只能得到一台并且很可能是最后获得的,这就导致台积电希望明年量产2纳米工艺的计划落空,这对台积电相当不利。
对比之下,拿到多达6台2纳米光刻机的Intel如果能率先量产2纳米及以下工艺,在如今Intel已开始大举发展代工业务的情况下,美国有可能对诸多美国芯片企业施加影响,促使它们从台积电转移订单给Intel,2023年Intel已首次跻身全球十大芯片代工厂之列,就很难说没有美国的影响。
芯片代表着一个国家的科技水平,近几年来美国对全球芯片行业的影响力显著下滑,在2纳米工艺的较量上,美国自然希望完全掌控,巩固它在先进芯片技术方面的优势,这促使它想方设法照顾有利于巩固自身技术优势的企业,而台积电显然未被美国视为自己人。
原文标题 : 台积电再被坑,2纳米光刻机优先给Intel和三星
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