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SPIE光刻数字论坛热场 3位光刻专家将为活动打头阵

SPIE先机光刻数字论坛将于2021年2月22日至26日在线上举办,活动将持续5天。据悉,在线上论坛开始前,其中,SPIE出版社将与三位顶尖的光刻技术作者举办互动数字活动,并免费向公众开放。

在这场将由Fractilia首席技术官Chris Mack主持的90分钟会议上,光刻专家Harry Levinson、Andreas Erdmann和Burn Lin将讨论他们的近况和介绍即将出版的书籍。

首席技术官Mack对此谈论道:"可以听取光刻领域三位关键专家的意见并和他们互动是一个激动人心的机会。他们每一位都对光刻领域做出了开创性的重大贡献。他们的书提供了独特的视角和见解。我很高兴能听到这些作者各自的观点,也很想知道观众会带来什么样的问题。"

专家介绍

Harry Levinson是SPIE的《微/纳米图案、材料和计量学杂志》(JM3)的主编。他在2020年出版的《极紫外光刻》一书涵盖了使EUV光刻技术为大批量制造做好准备所需的光刻技术的许多方面:曝光工具、光源、掩膜、抗蚀剂、过程控制、计量和计算光刻。

Andreas Erdmann是Fraunhofer IISB的计算光刻和光学部门负责人。他即将出版的《光学和EUV光刻。他即将出版的《光学和EUV光刻:建模视角》一书的材料是根据Erdmann在Friedrich-Alexander-University Erlangen-Nuremberg多年来讲授光学光刻技术、物理效应和建模的经验,以及他为光刻技术特殊方面的课程所做的准备整理而成。

林伯恩是清华大学杰出研究讲座教授,也是清华-TSMC联合研究中心主任。他即将出版的《光学光刻Here is Why, Second Edition》, 涵盖了光刻系统的图像形成物理学,并概述了光学光刻的未来和许多可能提高半导体制造的下一代技术。第二版的内容包括关于近距离印刷的新材料,以及关于曝光系统、图像形成、E-D方法、硬件组件、处理和优化以及EUV和浸入式光刻机的更新和扩展材料。

关于SPIE

SPIE是国际光学和光子学学会,是一个教育性的非营利组织,成立于1955年,旨在推动以光为基础的科学、工程和技术。学会为来自184个国家的258,000多名会员提供服务,提供会议及其出版的论文集、继续教育、书籍、期刊和SPIE数字图书馆。2020年,SPIE提供了超过580万美元的社区支持,包括奖学金和奖项、推广和宣传计划、旅行资助、公共政策和教育资源。

SPIE出版社是国际光学和光子学学会SPIE的出版部门。

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