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晶圆激光隐形切割——细微之处见真章

晶圆,指的是制作硅半导体电路时候采用的硅晶片,其原始材料是硅。由于其外形呈圆形,经常被称为“晶圆”。

晶圆好比是整个半导体结构的地基。地基打得好不好,直接决定了整个建筑的稳定性,同样的,复杂的电子器件工艺实现,都是要建立在结构平稳的晶圆基础上。

芯片制造是当前的国家重点科研攻关项目之一。随着芯片向着精密微型与高度集成方向发展,集成电路的密度不断增加,晶圆厂在制造半导体设备方面也不断面临挑战。

在微米级尺度上,传统加工手段普遍都变得缚手缚脚,难于施展。硅片本来就存在着脆弱易碎的问题,随着厚度减薄,晶圆会变得更加脆弱,当金刚石刀头接触到晶圆时,极易产生裂痕、断层和破片。

而芯片行业存在着高净值,高成本的特点。单个晶圆价值昂贵,对于机械划片而言,破片率的增加将会对利润率造成严重影响,这是生产商难以承受的。特别是成品晶圆覆盖金属薄层后,金属碎屑会包裹在金刚石刀刃上,将会使切割能力受到严重影响。

种种因素下,激光作为现代工业的支撑工具,以“隐形切割”的方式实现了芯片制造工艺的颠覆性提升。

隐形切割的原理,与常用于玻璃等材料激光内雕十分近似。通过光学控制将焦点放在晶圆内部形成多光子吸收非线性吸收效应,使得材料改性形成裂纹。这个过程只在晶圆下部占1/3-1/4的部分进行,不影响晶圆表面。由于晶圆下方存在着UV膜承载,待内部改质层完全形成后,可以通过拉伸承载层或扩膜的方式,使晶圆沿切缝处分离。

激光隐形划切技术最初是用于切割超薄半导体晶圆,但它在各种厚度的硅晶圆以及特种晶圆上都表现良好。这一技术存在着下列优势:

01

激光隐形划切形成的切缝很小,在芯片设计中,可以预留更少的切割通道。也就是说,同一块晶圆,采用激光隐形划切可能能制作出更多数量的芯片,废材较少,能够起到节约宝贵的半导体材料的作用。

02

激光隐形划切全程都在晶圆内部进行,表面无划痕、无粉尘污染,材料损耗极少,且无需后续的清洗过程。由于晶圆表面无硅渣残留,不会对下一步加工产生影响,特别适用于材料昂贵、污染敏感的材料。

03

在芯片面积一定的情况下,采用正六边形密排周长最短。通过激光隐形划切可以实现不规则形状的芯片组合成的晶圆加工,可以加工六边形、八边形等形状不等的芯片,不受切割通道连续与否影响,可以实现对材料利用的最大化。

近年来,得益于终端市场需求抬升,全球晶圆出货量仍处于稳步增长阶段。根据EMI数据显示,2022年,全球半导体硅晶圆出货面积、营收均创新高,分别达到147.13亿平方英寸、138亿美元。基于市场规模扩张,近几年我国激光隐切相关技术国产化已然起步。2020年,郑州轨交院与河南通用联合,历时一年成功研制我国首台半导体激光隐形晶圆切割机,开启了我国激光晶圆切割行业发展的序幕。

图片来源:CGT中国长城

如今,以大族激光帝尔激光华工激光为代表的企业已纷纷推出激光隐切相关设备,激光隐切百花齐放,为芯片进一步降低成本、突破制程约束提供了有力的支持。

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